基本信息
中文名称
氮化铬
英文名称
CHROMIUM(III) NITRIDE -325MESH
中文别名
英文别名
chromiumnitride(cr2n)、Dichromium mononitride、Dinitrilochromium(VI)、Chromium dinitrogen、Chromium nitride、Einecs 235-002-2
CAS号
12053-27-9
分子式
CrN
分子量
66.0028
精确质量
65.9436
PSA
3.24
LOGP
0.162
编号系统
EINECS号
235-002-2
MDL号
MFCD00016048
生产方法及用途
生产方法
1.将低碳铬铁在真空加热炉于1150℃氮化得到粗氮化铬铁，再经硫酸处理，除去铁杂质。经过滤、水洗、干燥，即得氮化铬。也可由氨和卤化铬反应制得。
2.将高纯度电解铬粉末，在150mmHg(1mmHg=133.322Pa)柱的氮气流中，于1060℃下加热160h之后，排出氮气并进行急冷，则制得Cr2N。
3.低碳铬铁碎至＜３ｍｍ，取1000ｋｇ在真空加热炉于1150℃及氮压0.0987ＭＰａ氮化24ｈ，得到粗氮化铬铁。冷后粉碎至＜０．３ｍｍ，取１０００ｋｇ在９５０℃再次进行氮化（其他条件同前）。冷后粉碎至＜0.3mm，放进１ｍ３反应器，用硫酸处理１６ｈ，将铁溶除。过滤、水洗、干燥。回收１０９ｋｇ氮化铬，含Ｃｒ７８．６％，Ｎ２１９．７％，Ｏ２０．８０％，Ｆｅ０．５９％，Ｃ０．１３％。也可由氨和卤化铬反应制得。
2.将高纯度电解铬粉末，在150mmHg(1mmHg=133.322Pa)柱的氮气流中，于1060℃下加热160h之后，排出氮气并进行急冷，则制得Cr2N。
3.低碳铬铁碎至＜３ｍｍ，取1000ｋｇ在真空加热炉于1150℃及氮压0.0987ＭＰａ氮化24ｈ，得到粗氮化铬铁。冷后粉碎至＜０．３ｍｍ，取１０００ｋｇ在９５０℃再次进行氮化（其他条件同前）。冷后粉碎至＜0.3mm，放进１ｍ３反应器，用硫酸处理１６ｈ，将铁溶除。过滤、水洗、干燥。回收１０９ｋｇ氮化铬，含Ｃｒ７８．６％，Ｎ２１９．７％，Ｏ２０．８０％，Ｆｅ０．５９％，Ｃ０．１３％。也可由氨和卤化铬反应制得。
用途
常用作薄膜涂层。具有高的硬度和良好的耐磨性，是一种很受重视的耐磨涂层。用空心阴极离子镀制备的氮化铬膜具有Cr+Cr2N两相组织，晶粒度为20～70nm，硬度为HV22GPa。经真空退火后，能提高到HV 4GPa。其耐磨性优于CrC膜。反应溅射法氮化铬膜能得到Cr+Cr2N或单相CrN两种组织，其硬度均在HV20～25GPa(块体CrN硬度HV11GPa)。用作耐磨涂层。
