化合物简介
三氟化氮是卤化氮中最稳定的，可在钙的催化下由氨气与氟气制成。 它可以用作氟化氢激光器的氧化剂，半导体、液晶和薄膜太阳能电池生产过程中的蚀刻剂。曾被试做火箭燃料。 但由于三氟化氮具有温室效应，因此有人认为应该限制这种化合物的使用。
基本信息
中文名称
三氟化氮
英文名称
nitrogen trifluoride
中文别名
氟化氮
英文别名
Trifluoroammonia、Trifluoramine、nitrogen fluoride、Nitrogen trifluoride、Perfluoroammonia、NF3、Trifluoroamine、Trifluorammonia、N,N,N-Trifluoroamine、Stickstofftrifluorid
CAS号
7783-54-2
分子式
F3N
分子量
71.0019
精确质量
70.9983
PSA
3.24
LOGP
0.9419
编号系统
UNII
4402F4X0RH
物化性质
外观与性状
无色气体
密度
1.361 g/cm3
沸点
-129°C
熔点
-207°C
折射率
1.187
水溶解性
insoluble
储存条件
库房通风低温干燥,轻装轻卸,与氢气、还原剂、油脂分开存放
安全信息
安全说明
S17-S23-S38
危险类别码
R8
危险品运输编码
2451
危险类别
2.2
危险品标志
O
生产方法及用途
生产方法
在熔融氟铵酸存在下，采用氨直接氟化工艺，其反应式为：反应产物经过除雾器、淋洗器、分子筛吸附器，以及真空蒸馏，可分别除去各种杂质，最后用低温法收集得到NF3。
用途
NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅的蚀刻，采用NF3和CF4＋O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染。氢与NF3反应，在瞬间伴随放出大量的热，这就是NF3在高能化学激光器方面大量应用的原理。在高温下，NF3与有机化合物反应常伴有爆炸性，操作时应十分谨慎。用作高能燃料。
合成路线
共找到37条合成路线 >上游原料
共找到51个上游原料 >