基本信息
中文名称
一氧化二氮
英文名称
Dinitrogen monoxide
中文别名
氧化亚氮、笑气
英文别名
dinitrogen oxide、Nitrous oxide、Laughing gas、Factitious air、Hyponitrous acid anhydride
CAS号
10024-97-2
分子式
N2O
分子量
44.0128
精确质量
44.0011
PSA
54.46
LOGP
0.06366
编号系统
RTECS号
QX1350000
BRN号
8137358
MDL号
MFCD00011492
EINECS号
233-032-0
PubChem号
24845071
物化性质
外观与性状
无色压缩液化气体
密度
1.46 g/cm3
沸点
−88°C(lit.)
熔点
−91°C(lit.)
折射率
1.469
稳定性
Oxidant, strongly supports combustion. May react violently with some materials. Thermal decomposition yields toxic products. Incompatible with aluminium, boron oxides, hydrazine, strong reducing agents.
储存条件
库房通风低温干燥,与有机物、易燃气体分开存放
蒸汽密度
1.53 (15 °C, vs air)
蒸汽压
51.7 mm Hg ( 21 °C)
安全信息
RTECS号
QX1350000
安全说明
S38
危险类别码
R8
WGK Germany
1
危险品运输编码
UN 1070 2.2
危险类别
2.2
危险品标志
O
危险性防范说明
P220; P244; P410 + P403
危险性描述
H270; H280
危险标志
GHS03, GHS04
信号词
Danger
生产方法及用途
生产方法
1.热解法 加热硝酸铵或加热无水硝酸钠与硫酸铵的混合物,生成的气体经精制、压缩、冷却、干燥、液化等工序,制得一氧化二氮成品。
2.催化氧化法 氨与空气在催化剂存在条件下发生催化氧化反应,生成的气体经精制得到粗一氧化二氮气体。该气体经压缩、高压水洗,再经压缩、干燥、液化工序,制得液体一氧化二氮产品。
3.市场上可以买到麻醉用一氧化二氮。实验室常用热分解NH4NO3制得。将纯硝酸铵放在烘箱中烘至160～170℃,令其完全脱水后,放入干燥器中凝固。将它研细装入带有支管的圆底烧瓶中。烧瓶颈上缠绕加热线圈,不让分解反应中生成的水冷凝回到熔融的反应物里。烧瓶支管接上一冰冷阱,使生成的水大部分冷凝下来。将烧瓶放在铁丝网上小心地加热,反应在170℃开始,温度不可超过250℃,以防止分解为N2和NO的反应发生。因为这是放热反应,应避免加热过急和反应物的量过多,否则有可能变成爆炸反应。生成的N2O用50%的KOH溶液洗涤。若有必要,微量的氧气可用连二亚硫酸盐的碱性溶液除去。
4.以纯度为95%～97%的一氧化二氮为原料,经常温吸附和低温下数次间歇抽空,可制得纯度达99.998%的高纯一氧化二氮产品。采用硝酸铵加热分解法可制取粗一氧化二氮,易分离和净化,再经提纯可得到高纯产品。反应式如下。
2.催化氧化法 氨与空气在催化剂存在条件下发生催化氧化反应,生成的气体经精制得到粗一氧化二氮气体。该气体经压缩、高压水洗,再经压缩、干燥、液化工序,制得液体一氧化二氮产品。
3.市场上可以买到麻醉用一氧化二氮。实验室常用热分解NH4NO3制得。将纯硝酸铵放在烘箱中烘至160～170℃,令其完全脱水后,放入干燥器中凝固。将它研细装入带有支管的圆底烧瓶中。烧瓶颈上缠绕加热线圈,不让分解反应中生成的水冷凝回到熔融的反应物里。烧瓶支管接上一冰冷阱,使生成的水大部分冷凝下来。将烧瓶放在铁丝网上小心地加热,反应在170℃开始,温度不可超过250℃,以防止分解为N2和NO的反应发生。因为这是放热反应,应避免加热过急和反应物的量过多,否则有可能变成爆炸反应。生成的N2O用50%的KOH溶液洗涤。若有必要,微量的氧气可用连二亚硫酸盐的碱性溶液除去。
4.以纯度为95%～97%的一氧化二氮为原料,经常温吸附和低温下数次间歇抽空,可制得纯度达99.998%的高纯一氧化二氮产品。采用硝酸铵加热分解法可制取粗一氧化二氮,易分离和净化,再经提纯可得到高纯产品。反应式如下。
用途
1.超临界溶剂。单独或与氧气混合用作牙科、外科和妇产科的麻醉剂。也可用作防腐剂、制冷剂、助燃剂、烟雾喷射剂。食品工业作为发泡剂和食品的密封剂。电子工业用于二氧化硅的化学气相沉积等离子工艺。军火工业用作推进剂。还可用于气密性检查、原子吸收光谱的载体等。检漏剂、制冷剂,以及用作原子吸收光谱用的助燃剂。
2.本产品用作医用麻醉剂、制冷剂、助燃剂、防腐剂、烟雾喷射剂、标准气和平衡气等,也用于半导体制造中的乳化CVD工序及气相淀积氮化硅的氮源。还可作为原子吸收光谱的氧化气体。
3.用于电子工业中二氧化硅的化学气相淀积等离子工艺。
4.用作医药麻醉剂、防腐剂,以及用于气密性检查。
2.本产品用作医用麻醉剂、制冷剂、助燃剂、防腐剂、烟雾喷射剂、标准气和平衡气等,也用于半导体制造中的乳化CVD工序及气相淀积氮化硅的氮源。还可作为原子吸收光谱的氧化气体。
3.用于电子工业中二氧化硅的化学气相淀积等离子工艺。
4.用作医药麻醉剂、防腐剂,以及用于气密性检查。
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