氟甲烷

氟甲烷，也称为甲基氟、氟利昂41、HFC-41，其化学式为CH3F，在常温常压下是无毒、可液化的可燃气体，是甲烷的一氟取代物。氟甲烷用在半导体及电子产品的制程中，在射频场下氟甲烷会溶解氟离子，可选择性的蚀刻硅化合物的薄膜，即反应性离子蚀刻(reactive-ion etching)。